財經中心／綜合報導

台積電2奈米製程洩密案今（27）日一審宣判。從台積電離職後轉任日商東京威力科創的工程師陳力銘，被控勾結仍在台積電任職的吳秉駿、戈一平，大量翻拍2奈米製程機密；另名工程師陳韋傑則涉洩露台積電14奈米以下製程機密。智慧財產及商業法院審結，判陳力銘10年、吳秉駿3年、戈一平2年、陳韋傑6年，全案可上訴。

判決指出，陳力銘曾任台積電12廠良率部門工程師，2022年離職、2023年轉至東京威力行銷部門，負責台積電蝕刻設備相關服務。由於東京威力當時爭取台積電2奈米製程蝕刻機供應資格未過關，陳力銘為求表現，私下請吳秉駿、戈一平協助，約在餐廳、住處等地碰面，讓他透過螢幕翻拍2奈米製程與實驗數據等機密資料，再傳回東京威力存檔，用於改善蝕刻機台。

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此外，陳力銘在東京威力的女上司盧怡尹，得知公司捲入調查後，涉擅自刪除陳力銘上傳公司雲端的台積電14奈米製程機密資料，被依滅證罪嫌起訴並求刑1年，今日判10個月、緩刑3年。東京威力公司本案2度遭起訴，分別被求處罰金1.2億元與2500萬元，今日遭判罰1.5億元、緩刑3年，均可上訴。

本案源於台積電2025年7月8日通報竊密事件，高檢署智財分署隨即指揮調查局搜索約談。檢方先後起訴陳力銘、吳秉駿、戈一平，並追加起訴東京威力、陳韋傑與盧怡尹。由於台積電2奈米製程被列為《國安法》所定「國家核心關鍵技術之營業秘密」，涉嫌竊取、侵占、擅自重製或洩漏者，法定可處5年以上、12年以下有期徒刑，並可併科500萬元以上、1億元以下罰金。

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